We used liquid phase deposition (LPD) method in stead of traditional thermal method to deposit oxide films, and the LPD has higher efficiency due to more defects in it.
英
美
由于锗融点的关系我们以液相沈积法代替传统的热成长法来成长氧化层,且由于液相沈积法成长的氧化层有较多的缺陷所以有较高的效率。
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