mask pattern

• 掩模图案,点阵结构,晶架

mask pattern的用法和样例：

例句

1. The isolation layer and the first auxiliary layer are etched by using the first mask patterns to form second mask patterns.
   通过使用第一掩模图案，蚀刻隔离层和第一辅助层以形成第二掩模图案。