mask pattern

　
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  • 掩模圖案,點陣結構,晶架

mask pattern的用法和樣例：

例句

  1. The isolation layer and the first auxiliary layer are etched by using the first mask patterns to form second mask patterns.
    通過使用第一掩模圖案，蝕刻隔離層和第一輔助層以形成第二掩模圖案。

mask pattern的相關資料：

臨近單詞

mask Maskus
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