Using Ternary alloy NiFeNb as a new seed layer, the (Ni_(82)Fe_(18))_(1-x)Nb_x(t nm)/Ni_(82)Fe_(18)(d nm)/Ta(3 nm) films are prepared with a DC magnetron sputtering system.

　
英 美
  • 以三元合金NiFeNb作新种子层；采用直流磁控多靶设备制备了具有不同Nb含量(x)、NiFeNb厚度(t)和坡莫合金厚 度(d)的纳米级(Ni82Fe18)1-xNbx(tnm)/Ni82Fe18(dnm)/Ta(3nm)坡莫合金系列膜.
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