The room temperature saturation magnetization of theFe-N films deposited under these conditions is as high as 2179 emu/cc, which ismuch higher than that of pure iron, 1714 emu/cc.
英
美
在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度,室温下高达 2179 emu/cc,远高于纯铁的饱和磁化强度值 1714 emu/cc。
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