The relative stand deviation of relative migration time (RMT) and relative stand CL intensity of luminol were 4.6% and 12.7%, respectively.

 
  • 在MEKC分离模式中,对于鲁米诺单组分微流控芯片分离的相对迁移时间、相对化学发光强度的相对标准偏差分别为4.;6%25和12
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