The optimum method for preparing TiNi thin films is magnetron sputtering (the parameter is: electrical current 0.6 A, vacuum 0.6 Pa, Ar flux 25 SCCM ).
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在本实验条件下优选出来的制膜方法为磁控溅射法;工艺参数为溅射电流0.;6 A;真空度0
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