It is also found that the subsequent etching treatment in a H3PO4 solution can remove the barrier layer on AAO membrane and improve the regularity of holes.
英
美
扫描电镜观察显示,氧化铝膜的扩孔过程可以去掉阻碍层,并调节孔径大小,溶去二次氧化后黏附在氧化层表面的一些杂质,从而使氧化铝模板更为规则有序,孔径均一。
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