For the assembly and final release of DSM and subwavelength designs, it is essential to clean up IP, making it compatible with the mask-making grid before the MDP and RET phase of the design.
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美
对DSM的装配和最终发布及亚波长设计,整理IP,在MDP和RET相位设计前使其与掩模制造栅格兼容是重要的。
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