For study the surface plasmon polaritons and surface reflection phenomena, the sub-wavelength structures with various period and shape were fabricated by conventional semiconductor processes.
英
美
在结构上,我们改变折射率匹配层二氧化矽的厚度,以及改变铝金属膜的厚度,欲找到一最佳的条件,让表面电浆引发的高穿透强度达到最大,且最有效率。
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