Diagnostic test with Langmuir probe of the electron cyclotron resonance (ECR) plasma source was modified to evaluate our lab built ECR plasma etching system.
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电子回旋共振(ECR)等离子体以其密度高、工作气压低、均匀性好、参数易于控制等优点在超大规模集成电路工艺中获得了广泛的应用。
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