And it should also be noted that the TDDB properties and lifetime of refractory metal gate capacitors with thinner EOT are better than those of polysilicon gate capacitors.
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进一步研究发现具有更薄EOT的难熔金属栅电极PMOS电容在TDDB特性以及寿命等方面均优于多晶硅栅电极的相应结构.
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