在早期的集成电路制作实践中,刻蚀偏差通常是通过在掩膜层上引入一个适量的修正来处理的。

在早期的集成电路制作实践中,刻蚀偏差通常是通过在掩膜层上引入一个适量的修正来处理的。的英文翻译

基本释义

• In early IC fabrication practice, etch bias was usually dealt with by introducing an appropriate amount of compensation in the masking layer.